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等離子刻蝕設備腔體
  • 等離子刻蝕設備腔體
產品名稱

等離子刻蝕設備腔體

加工精度 0.01mm
是否定制 可按圖紙定制
粗糙度 0.1μm
材料成分 微晶玻璃
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在先進半導體制造中,等離子刻蝕設備對結構材料的熱穩定性、尺寸精度和表面質量提出了極高要求
而使用微晶玻璃作為等離子刻蝕腔體可以大幅提升設備的熱穩定性和刻蝕均勻性。微晶玻璃(Zerodur)具備極低的熱膨脹系數,可達(CTE ≈ 0 ± 0.02 × 10??/K)能夠保證腔體在高頻加熱或冷卻過程中的尺寸穩定性,同時微晶玻璃可達到光學級的表面粗糙度,有助于提升等離子體均勻性

 

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